電子/半導體
磊晶 epitaxy。

現今成熟的磊晶技術﹐經由選擇高純度的單晶原料﹐適當的溫度(一般在攝氏數百度)﹐以及精確地控制各組成元素分(原)子大小的匹配﹐即可得到高品質的磊晶成品。而磊晶薄膜是純度極高之矽晶底層,用於晶圓上而形成一個非常均勻的晶體結構,用以增強半導體晶片之工作效能。基本上﹐異質結構半導體是利用特殊的磊晶技術﹐將不同種類的單晶元素逐層地建構起來。其原理有點類似砌疊層層的磚塊﹐只不過這些磊晶技術中的“磚塊”僅有單個分子﹐甚至原子的大小。由於磊晶技術門檻高,進入不易,在加上國際光電通訊產業之蓬勃發展,故產業未來充滿無限商機及許多挑戰。








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