電子/半導體

曝光　exposure。

指將塗敷在晶圓上之抗蝕劑，形成電路圖案之過程。通常針對上一製程所形成之電路圖案加以對準位置，形成次一製程之電路圖案。由於曝光通常都在柔和之黃光氣氛環境下進行，因此也將此製程俗稱為黃光製程。